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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2345位 9件
(2018年:第2064位 10件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第2333位 6件
(2018年:第1989位 8件)
(ランキング更新日:2022年8月12日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6619606 | 成膜装置 | 2019年12月11日 | |
特許 6616500 | 光活性デバイス及び材料 | 2019年12月 4日 | |
特許 6576362 | フッ素含有導電膜 | 2019年 9月18日 | |
特許 6516517 | 複数の反応チャンバを共有するガスシステムで均一な処理を行う方法 | 2019年 5月22日 | |
特許 6472203 | TDMAT又はTDEATを用いてPEALDによりTi含有膜を形成する方法 | 2019年 2月20日 | |
特許 6452292 | 低温でのSiNの蒸着用Si前駆体 | 2019年 1月16日 |
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6619606 6616500 6576362 6516517 6472203 6452292
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8月16日(火) -
8月18日(木) - 東京 品川区
8月19日(金) - 東京 港区
8月16日(火) -
8月23日(火) - 東京 千代田区
8月23日(火) -
8月24日(水) -
8月25日(木) -
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8月26日(金) -
8月26日(金) -
8月26日(金) -
8月23日(火) - 東京 千代田区
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