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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7321747 | シリコンヒドロハライド前駆体を用いたSiNのプラズマエンハンスト原子層堆積(PEALD) | 2023年 8月 7日 | |
特許 7309962 | SiN薄膜の形成 | 2023年 7月18日 | |
特許 7300032 | 酸化物薄膜の堆積 | 2023年 6月28日 | |
特許 7299289 | 有機膜の気相堆積 | 2023年 6月27日 | |
特許 7262646 | モリブデン又はタングステン含有薄膜のALD用前駆体の合成及び使用方法 | 2023年 4月21日 | |
特許 7250442 | 基板処理方法及び装置 | 2023年 4月 3日 | |
特許 7249952 | 酸素含有薄膜の制御された形成のためのプラズマ増強堆積プロセス | 2023年 3月31日 | |
特許 7240549 | 堆積および除去を使用した選択的層形成 | 2023年 3月15日 | |
特許 7233173 | トレンチの側壁又は平坦面上に選択的に窒化ケイ素膜を形成する方法 | 2023年 3月 6日 | |
特許 7219738 | 低温でのSiNの蒸着用Si前駆体 | 2023年 2月 8日 | |
特許 7214724 | バッチ炉で利用されるウェハカセットを収納するための収納装置 | 2023年 1月30日 | |
特許 7206265 | クリーン・ミニエンバイロメントを備える装置 | 2023年 1月17日 |
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7321747 7309962 7300032 7299289 7262646 7250442 7249952 7240549 7233173 7219738 7214724 7206265
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