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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第291位 98件
(2024年:第357位 92件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第258位 93件
(2024年:第286位 108件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7665876 | ポリシリコンにおける微粉発生のしやすさの推定方法、推定装置、ポリシリコンの製造方法、学習済モデルの生成装置および生成方法 | 2025年 4月21日 | |
特許 7663793 | 半導体用処理液、及び低毒性半導体用処理液として用いる方法 | 2025年 4月16日 | |
特許 7660414 | 球状シリカエアロゲルの製造方法 | 2025年 4月11日 | |
特許 7660776 | ガス製造装置の停止方法、並びに、酸素ガス及び水素ガスの製造方法 | 2025年 4月11日 | |
特許 7660020 | ゴム組成物の製造方法 | 2025年 4月10日 | |
特許 7659537 | フォトクロミック環状化合物、及び該フォトクロミック環状化合物を含む硬化性組成物 | 2025年 4月 9日 | |
特許 7658901 | コーティング方法 | 2025年 4月 8日 | |
特許 7657197 | 積層体 | 2025年 4月 4日 | |
特許 7653675 | III族窒化物単結晶の切断方法 | 2025年 3月31日 | |
特許 7651784 | 精製イソプロピルアルコールの製造方法 | 2025年 3月26日 | |
特許 7646887 | 次亜塩素酸イオン、及びpH緩衝剤を含む半導体ウェハの処理液 | 2025年 3月17日 | |
特許 7645676 | 窒化アルミニウム焼結顆粒 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645758 | 表面処理フィラーの評価方法 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645759 | 表面処理フィラーの評価方法 | 2025年 3月14日 | |
特許 7645813 | 窒化ケイ素焼結体の製造方法 | 2025年 3月14日 |
96 件中 61-75 件を表示
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7665876 7663793 7660414 7660776 7660020 7659537 7658901 7657197 7653675 7651784 7646887 7645676 7645758 7645759 7645813
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10月17日(金) -
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10月21日(火) - 東京 港区
10月21日(火) -
10月21日(火) - 大阪 大阪市
10月21日(火) -
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10月22日(水) - 栃木 宇都宮市
10月23日(木) - 東京 港区
10月23日(木) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) -
10月24日(金) - 東京 千代田区
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10月24日(金) -
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