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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第296位 94件
(
2025年:第277位 122件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第305位 76件
(
2025年:第271位 108件)
(ランキング更新日:2026年10月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7870738 | エッチング液、基板の処理方法及びシリコンデバイスの製造方法 | 2026年 6月 5日 | |
| 特許 7862246 | 焼結用窒化ケイ素粉末 | 2026年 5月19日 | |
| 特許 7854938 | 次亜臭素酸イオン及びpH緩衝剤を含む半導体ウェハの処理液 | 2026年 5月 7日 | |
| 特許 7854113 | 表面処理窒化アルミニウム粉末 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7854026 | フィルタの洗浄方法及びフィルタの洗浄装置 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7854025 | フィルタの洗浄装置 | 2026年 4月30日 | |
| 特許 7851003 | タングステン酸化物、触媒及びタングステン酸化物の製造方法 | 2026年 4月24日 | |
| 特許 7851266 | 水硬性組成物 | 2026年 4月24日 | |
| 特許 7850875 | イオン交換膜、イオン交換膜の製造方法、膜電極接合体及び水素製造装置 | 2026年 4月23日 | |
| 特許 7846992 | 塩化ビニル系プラスチゾル組成物 | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7846987 | フォトクロミック性ヒドロキシウレタン化合物 | 2026年 4月16日 | |
| 特許 7844623 | 電解槽ユニットの製造方法および電解槽ユニット | 2026年 4月13日 | |
| 特許 7843825 | 多結晶シリコンの製造装置 | 2026年 4月10日 | |
| 特許 7840756 | セメントクリンカの製造方法及び製造設備 | 2026年 4月 6日 | |
| 特許 7838046 | 検査台および検査方法 | 2026年 3月31日 |
76 件中 31-45 件を表示
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7870738 7862246 7854938 7854113 7854026 7854025 7851003 7851266 7850875 7846992 7846987 7844623 7843825 7840756 7838046
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