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■ 2026年 出願公開件数ランキング 第298位 94件
(
2025年:第277位 122件)
■ 2026年 特許取得件数ランキング 第306位 76件
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2025年:第271位 108件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7837317 | ビオチンの製造方法、並びに、ビオチンのL-リシン塩及びその製造方法 | 2026年 3月30日 | |
| 特許 7834285 | 二酸化炭素の電解セル | 2026年 3月24日 | |
| 特許 7832808 | ポリエチレン系多孔質延伸フィルム | 2026年 3月18日 | |
| 特許 7830331 | 重合性官能基含有マイクロバルーン | 2026年 3月16日 | |
| 特許 7829497 | 活性水素基含有側鎖を有する環状分子、および該環状分子を含む硬化性組成物 | 2026年 3月13日 | |
| 特許 7829300 | 樹脂組成物及び半導体封止剤 | 2026年 3月13日 | |
| 特許 7828291 | 樹脂組成物 | 2026年 3月11日 | |
| 特許 7826566 | 多孔質球状シリカ及びその製造方法 | 2026年 3月 9日 | |
| 特許 7826207 | 窒化アルミニウム単結晶基板の洗浄方法、窒化アルミニウム単結晶積層体の製造方法、及び窒化アルミニウム単結晶基板の製造方法、並びに窒化アルミニウム単結晶基板 | 2026年 3月 9日 | |
| 特許 7825429 | 水銀除去方法 | 2026年 3月 6日 | |
| 特許 7824135 | 半導体用処理液 | 2026年 3月 4日 | |
| 特許 7819114 | 半導体ウェハの処理液及びその製造方法 | 2026年 2月24日 | |
| 特許 7818676 | 多孔質球状シリカ、触媒担体、化粧品、分析カラム、研磨剤、樹脂組成物、および、多孔質球状シリカの製造方法 | 2026年 2月20日 | |
| 特許 7818675 | 多孔質球状シリカ、触媒担体、化粧品、分析カラム、研磨剤、樹脂組成物、および、多孔質球状シリカの製造方法 | 2026年 2月20日 | |
| 特許 7812982 | 内部マニホールド型電解槽のセルフレームおよびセル、ならびに内部マニホールド型電解槽 | 2026年 2月10日 |
76 件中 46-60 件を表示
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7837317 7834285 7832808 7830331 7829497 7829300 7828291 7826566 7826207 7825429 7824135 7819114 7818676 7818675 7812982
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