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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第357位 92件 (2023年:第372位 92件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件 (2023年:第304位 106件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7607852 | 精製イソプロピルアルコール水溶液の製造方法 | 2024年12月27日 | |
特許 7606455 | 酸化ルテニウムガスの吸収液、酸化ルテニウムの分析方法およびトラップ装置、定量分析装置 | 2024年12月25日 | |
特許 7606459 | 多結晶シリコンロッドおよびその製造方法 | 2024年12月25日 | |
特許 7605751 | 多結晶シリコンの製造方法 | 2024年12月24日 | |
特許 7605752 | トリクロロシランの製造方法及びトリクロロシランの製造装置 | 2024年12月24日 | |
特許 7603499 | 発泡性サスペンジョン系多孔質塩化ビニル系樹脂粉体、及び塩化ビニル系プラスチゾル組成物 | 2024年12月20日 | |
特許 7603598 | トリオン化合物の製造方法 | 2024年12月20日 | |
特許 7600466 | 半導体用処理液 | 2024年12月16日 | |
特許 7599316 | シリコーン樹脂組成物 | 2024年12月13日 | |
特許 7597839 | 電解装置 | 2024年12月10日 | |
特許 7595232 | クロロシラン類の製造方法 | 2024年12月 5日 | |
特許 7594554 | ハロゲン化炭化水素マグネシウム化合物の製造方法、並びに、第3級アルコール化合物及び有機ケイ素化合物の製造方法 | 2024年12月 4日 | |
特許 7590504 | 次亜塩素酸イオンを含む半導体ウェハの処理液 | 2024年11月26日 | |
特許 7588527 | 六方晶窒化ホウ素粉末 | 2024年11月22日 | |
特許 7588551 | 六方晶窒化ホウ素凝集粒子 | 2024年11月22日 |
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7607852 7606455 7606459 7605751 7605752 7603499 7603598 7600466 7599316 7597839 7595232 7594554 7590504 7588527 7588551
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1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
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