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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第357位 92件
(2023年:第372位 92件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第286位 108件
(2023年:第304位 106件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7607852 | 精製イソプロピルアルコール水溶液の製造方法 | 2024年12月27日 | |
特許 7606455 | 酸化ルテニウムガスの吸収液、酸化ルテニウムの分析方法およびトラップ装置、定量分析装置 | 2024年12月25日 | |
特許 7606459 | 多結晶シリコンロッドおよびその製造方法 | 2024年12月25日 | |
特許 7605751 | 多結晶シリコンの製造方法 | 2024年12月24日 | |
特許 7605752 | トリクロロシランの製造方法及びトリクロロシランの製造装置 | 2024年12月24日 | |
特許 7603499 | 発泡性サスペンジョン系多孔質塩化ビニル系樹脂粉体、及び塩化ビニル系プラスチゾル組成物 | 2024年12月20日 | |
特許 7603598 | トリオン化合物の製造方法 | 2024年12月20日 | |
特許 7600466 | 半導体用処理液 | 2024年12月16日 | |
特許 7599316 | シリコーン樹脂組成物 | 2024年12月13日 | |
特許 7597839 | 電解装置 | 2024年12月10日 | |
特許 7595232 | クロロシラン類の製造方法 | 2024年12月 5日 | |
特許 7594554 | ハロゲン化炭化水素マグネシウム化合物の製造方法、並びに、第3級アルコール化合物及び有機ケイ素化合物の製造方法 | 2024年12月 4日 | |
特許 7590504 | 次亜塩素酸イオンを含む半導体ウェハの処理液 | 2024年11月26日 | |
特許 7588527 | 六方晶窒化ホウ素粉末 | 2024年11月22日 | |
特許 7588551 | 六方晶窒化ホウ素凝集粒子 | 2024年11月22日 |
110 件中 1-15 件を表示
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7607852 7606455 7606459 7605751 7605752 7603499 7603598 7600466 7599316 7597839 7595232 7594554 7590504 7588527 7588551
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ビジネスの実務で役立つ技術契約の基礎知識と実例 ~秘密保持契約、共同研究開発、共同出願契約、製造委託契約、特許ライセンス契約~
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日常実務の疑問点に答える著作権(周辺領域の商標・不正競争防止法を含む)に関するQ&A~日常業務において、判断に迷う・知らずして間違いを犯しがちなケースを取り上げて、Q&A形式で平易に解説~
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