特許ランキング - 出願人詳細情報 -

日産化学工業株式会社

※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第115位　442件（2016年：第305位　126件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第222位　137件（2016年：第219位　156件）

（ランキング更新日：2025年12月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

日産化学工業株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6222229	ｎ型有機半導体薄膜の製造方法	2017年11月 1日
特許 6222484	ヘテロ原子を有する環状有機基含有シリコン含有レジスト下層膜形成組成物	2017年11月 1日
特許 6217648	液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、及び液晶表示素子	2017年10月25日
特許 6217935	含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含むエポキシ樹脂組成物	2017年10月25日
特許 6217937	液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子	2017年10月25日
特許 6217940	環状ジエステル基を有するシリコン含有レジスト下層膜形成組成物	2017年10月25日
特許 6218285	タンパク質産生促進剤	2017年10月25日
特許 6212895	トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物	2017年10月18日
特許 6210233	含フッ素高分岐ポリマー及びそれを含むポリカーボネート樹脂組成物	2017年10月11日
特許 6206187	液晶配向処理剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子	2017年10月 4日
特許 6206677	カルボニル基含有ポリヒドロキシ芳香環ノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物	2017年10月 4日
特許 6207403	金属微粒子会合体及びその製造方法	2017年10月 4日
特許 6202006	液晶配向膜の製造方法、液晶配向膜、及び液晶表示素子	2017年 9月27日
特許 6202260	除草剤組成物	2017年 9月27日
特許 6202280	含窒素複素環Ｎ−オキシド化合物の製造方法	2017年 9月27日

149 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6222229 6222484 6217648 6217935 6217937 6217940 6218285 6212895 6210233 6206187 6206677 6207403 6202006 6202260 6202280

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数