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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第115位 442件
(2016年:第305位 126件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第222位 137件
(2016年:第219位 156件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6132107 | ヒドロゲル形成材料 | 2017年 5月24日 | |
特許 6132108 | ヒドロゲル形成材料、プレミックス及びヒドロゲル形成方法 | 2017年 5月24日 | |
特許 6128213 | チオフェン誘導体及びその利用並びにチオフェン誘導体の製造方法 | 2017年 5月17日 | |
特許 6128657 | ジペプチド誘導体及びジペプチド誘導体からなる両親媒性低分子ゲル化剤 | 2017年 5月17日 | |
特許 6123804 | 3環性ヘテロ環化合物及びJAK阻害剤 | 2017年 5月10日 | |
特許 6124012 | 1−(2−アミノ−置換フェニル)−2−ハロ−2,2−ジフルオロエタノン化合物及び1−(置換フェニル)−2−ハロ−2,2−ジフルオロエタノン化合物の製造方法 | 2017年 5月10日 | |
特許 6124013 | 光硬化性樹脂組成物 | 2017年 5月10日 | |
特許 6124025 | 多核フェノール類を有するノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物 | 2017年 5月10日 | |
特許 6119983 | リソグラフィー用レジスト上層膜形成組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法 | 2017年 4月26日 | |
特許 6120013 | 添加剤を含むケイ素含有EUVレジスト下層膜形成組成物 | 2017年 4月26日 | |
特許 6115727 | ディスプレイ基板用樹脂組成物 | 2017年 4月19日 | |
特許 6112288 | エチレンオキサイド鎖を有するハイパーブランチポリマー及びその利用 | 2017年 4月12日 | |
特許 6112290 | 安定化される農薬組成物 | 2017年 4月12日 | |
特許 6112296 | トリアジン環含有重合体およびそれを含む膜形成用組成物 | 2017年 4月12日 | |
特許 6107661 | ケイ素系液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2017年 4月 5日 |
149 件中 76-90 件を表示
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6132107 6132108 6128213 6128657 6123804 6124012 6124013 6124025 6119983 6120013 6115727 6112288 6112290 6112296 6107661
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