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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第357位 92件 (2023年:第393位 85件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第182位 187件 (2023年:第199位 183件)
(ランキング更新日:2025年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2024-82753 | 波長変換膜形成用組成物 | 2024年 6月20日 | |
特開 2024-75578 | インク組成物 | 2024年 6月 4日 | |
特開 2024-73468 | レジスト下層膜形成組成物 | 2024年 5月29日 | |
特開 2024-73474 | 多環芳香族含有ポリマーを含むレジスト下層膜形成用組成物 | 2024年 5月29日 | |
特開 2024-73626 | ネガ型感光性樹脂組成物 | 2024年 5月29日 | |
特開 2024-72835 | 光照射剥離用接着剤組成物及び積層体並びに積層体の製造方法及び剥離方法 | 2024年 5月28日 | |
特開 2024-70838 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 | 2024年 5月23日 | |
特開 2024-69252 | レジスト下層膜形成組成物 | 2024年 5月21日 | |
特開 2024-69387 | 特定の架橋剤を含む保護膜形成組成物及びそれを用いたパターン形成方法 | 2024年 5月21日 | |
特開 2024-62954 | ピリジン骨格を含む重合体、並びに該重合体及び溶媒を含む絶縁膜形成組成物 | 2024年 5月10日 | |
特開 2024-63092 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2024年 5月10日 | |
特開 2024-61860 | 半導体基板の洗浄方法、加工された半導体基板の製造方法、及び、剥離及び溶解用組成物 | 2024年 5月 8日 | |
特開 2024-61047 | 低屈折率膜を含む積層体及びその製造方法 | 2024年 5月 7日 | |
特開 2024-59666 | 環式カルボニル化合物を用いたレジスト下層膜形成組成物 | 2024年 5月 1日 | |
特開 2024-59669 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びそれを用いた液晶表示素子 | 2024年 5月 1日 |
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2024-82753 2024-75578 2024-73468 2024-73474 2024-73626 2024-72835 2024-70838 2024-69252 2024-69387 2024-62954 2024-63092 2024-61860 2024-61047 2024-59666 2024-59669
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1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
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1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
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