ホーム > 特許ランキング > 日産化学工業株式会社 > 2024年 > 出願公開一覧
日産化学工業株式会社
※ ログインすれば出願人(日産化学工業株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2024年 出願公開件数ランキング 第357位 92件
（
2023年：第393位 85件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第182位 187件
（2023年：第199位 183件）
（ランキング更新日：2025年1月9日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2025年
日産化学工業株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2024-8588 | 高分子被覆した低誘電正接シリカゾル及びその製造方法 | 2024年 1月19日 | |
| 特開 2024-8719 | 光沢を失わずに着色する方法 | 2024年 1月19日 | |
| 特表 2024-502487 | 抗酸化剤を含む原油及びガス貯留層の地下注入用薬液 | 2024年 1月19日 | |
| 特開 2024-7369 | 液晶配向膜の製造方法、液晶表示素子の製造方法、液晶配向膜、及び液晶表示素子 | 2024年 1月18日 | |
| 特開 2024-5774 | 保存安定性に優れた塩素化イソシアヌル酸組成物 | 2024年 1月17日 | |
| 特開 2024-4449 | レジスト下層膜形成用組成物 | 2024年 1月16日 | |
| 特開 2024-3004 | 含フッ素アニリン誘導体 | 2024年 1月11日 | |
| 特開 2024-1159 | 細胞保存材料 | 2024年 1月 9日 | |
| 特開 2024-1185 | レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月 9日 | |
| 特開 2024-1186 | レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジストパターンの形成方法及び半導体装置の製造方法 | 2024年 1月 9日 |
100 件中 91-100 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2024-8588 2024-8719 2024-502487 2024-7369 2024-5774 2024-4449 2024-3004 2024-1159 2024-1185 2024-1186
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。日産化学工業株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
1月9日(木) -
1月10日(金) -
1月11日(土) -
1月11日(土) -
1月9日(木) -
1月14日(火) - 東京 港区
1月15日(水) -
1月15日(水) - 東京 千代田区
1月15日(水) -
1月15日(水) -
1月16日(木) - 石川 金沢市
1月16日(木) -
1月17日(金) - 東京 渋谷区
1月17日(金) -
1月17日(金) -
1月18日(土) -
1月14日(火) - 東京 港区
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
東京都板橋区東新町１－５０－１ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許
東京都港区北青山2丁目7番20号 第二猪瀬ビル3F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
