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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第572位 58件
(2015年:第600位 54件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第636位 40件
(2015年:第1164位 17件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 5892638 | 研磨用組成物およびその製造方法 | 2016年 3月23日 | |
特許 5894198 | 溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 | 2016年 3月23日 | |
特許 5889921 | 研磨用組成物、その製造方法、希釈用原液、及びシリコン基板の製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5890583 | 研磨用組成物および研磨物製造方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5891174 | シリコンウェーハ研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2016年 3月22日 | |
特許 5877940 | 銅及びシリコンが表面に露出したウェーハの研磨方法 | 2016年 3月 8日 | |
特許 5873882 | 研磨用組成物、その製造方法、シリコン基板の製造方法、及びシリコン基板 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5860057 | 研磨用組成物、それを用いた研磨方法及び基板の製造方法 | 2016年 2月16日 | |
特許 5857310 | 研磨用組成物およびその製造方法 | 2016年 2月10日 | |
特許 5859054 | シリコンウェーハ研磨用組成物 | 2016年 2月10日 | |
特許 5859055 | シリコンウェーハ研磨用組成物 | 2016年 2月10日 | |
特許 5852479 | 鍍金装置及び鍍金物の製造方法 | 2016年 2月 3日 |
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5892638 5894198 5889921 5890583 5891174 5877940 5873882 5860057 5857310 5859054 5859055 5852479
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