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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第612位 52件
（
2013年：第802位 40件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第1883位 12件
（2013年：第2459位 8件）
（ランキング更新日：2025年6月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5638390 | ろ過方法、およびそれを用いた研磨用組成物の精製方法ならびにろ過に用いるフィルターの再生方法およびフィルター再生装置 | 2014年12月10日 | |
| 特許 5587620 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5580441 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5575735 | 研磨用組成物濃縮物 | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5564461 | 研磨用組成物 | 2014年 7月30日 | |
| 特許 5544244 | 研磨用組成物および研磨方法 | 2014年 7月 9日 | |
| 特許 5530672 | ベーマイト粒子の製造方法及びアルミナ粒子の製造方法 | 2014年 6月25日 | |
| 特許 5492603 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5474400 | 半導体用濡れ剤、それを用いた研磨用組成物および研磨方法 | 2014年 4月16日 | |
| 特許 5456535 | レジンボンド砥石 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5460827 | シリコンウエハの製造方法 | 2014年 4月 2日 | |
| 特許 5399954 | 溶射用粉末 | 2014年 1月29日 |
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5638390 5587620 5580441 5575735 5564461 5544244 5530672 5492603 5474400 5456535 5460827 5399954
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