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株式会社フジミインコーポレーテッド

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  2016年 出願公開件数ランキング    第572位 58件 上昇2015年:第600位 54件)

  2016年 特許取得件数ランキング    第636位 40件 上昇2015年:第1164位 17件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6053311 シリコン貫通電極構造を有する半導体基板の研磨に使用する研磨用組成物及びその研磨用組成物を用いる研磨方法 2016年12月27日
特許 6054149 研磨用組成物 2016年12月27日
特許 6050125 研磨用組成物、それを用いた研磨方法及び基板の製造方法 2016年12月21日
特許 6050839 表面選択性研磨組成物 2016年12月21日
特許 6050934 研磨用組成物並びにそれを用いた研磨方法及び基板の製造方法 2016年12月21日
特許 6042407 研磨用組成物、及び当該研磨用組成物を用いた化合物半導体基板の製造方法 2016年12月14日
特許 6037416 シリコンウエハ研磨用組成物 2016年12月 7日
特許 6038640 基板濡れ性促進組成物、並びにこれを含む研磨用組成物およびこれを用いた基板の製造方法 2016年12月 7日
特許 6040029 研磨用組成物及び研磨方法 2016年12月 7日
特許 6029895 研磨用組成物及び基板の製造方法 2016年11月24日
特許 6029916 研磨用組成物 2016年11月24日
特許 6028046 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 2016年11月16日
特許 6017315 研磨材及び研磨用組成物 2016年10月26日
特許 6013828 研磨用組成物、当該研磨用組成物の製造方法、及び当該研磨用組成物を用いた半導体基板の製造方法 2016年10月25日
特許 6005521 研磨用組成物およびそれを用いた半導体基板の研磨方法 2016年10月12日

42 件中 1-15 件を表示

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6053311 6054149 6050125 6050839 6050934 6042407 6037416 6038640 6040029 6029895 6029916 6028046 6017315 6013828 6005521

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