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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第452位 81件
（
2018年：第737位 39件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第729位 30件
（
2018年：第533位 47件）
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6622963 | 合金材料の研磨方法及び合金材料の製造方法 | 2019年12月18日 | |
| 特許 6622991 | 研磨用組成物 | 2019年12月18日 | |
| 特許 6618749 | 溶射用粉末及び溶射皮膜の形成方法 | 2019年12月11日 | |
| 特許 6611485 | 研磨方法およびポリシング用組成物 | 2019年11月27日 | |
| 特許 6604722 | 金属酸化物含有膜付き物品 | 2019年11月13日 | |
| 特許 6602828 | アルミニウム合金材の製造方法 | 2019年11月 6日 | |
| 特許 6596214 | 溶射材料 | 2019年10月23日 | |
| 特許 6577160 | 水酸化アルミニウム被覆炭化珪素粒子粉体の製造方法、ならびに当該粉体および分散媒を含む分散体の製造方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6578106 | 溶射用粉末 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6572082 | 磁気ディスク基板用研磨組成物、磁気ディスク基板の製造方法および磁気ディスク基板 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6572288 | シリコン材料研磨用組成物 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6572299 | シリコンウェーハ研磨用組成物および研磨方法 | 2019年 9月 4日 | |
| 特許 6562605 | 研磨用組成物の製造方法 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6562977 | 粉末積層造形に用いる粉末材料およびそれを用いた粉末積層造形法 | 2019年 8月21日 | |
| 特許 6564638 | 研磨用組成物、磁気ディスク基板製造方法および磁気ディスク基板 | 2019年 8月21日 |
34 件中 1-15 件を表示
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6622963 6622991 6618749 6611485 6604722 6602828 6596214 6577160 6578106 6572082 6572288 6572299 6562605 6562977 6564638
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