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株式会社フジミインコーポレーテッド
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第600位 54件
（
2014年：第612位 52件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第1164位 17件
（2014年：第1883位 12件）
（ランキング更新日：2026年2月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社フジミインコーポレーテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5838083 | 研磨用組成物並びにそれを用いた研磨方法及び基板の製造方法 | 2015年12月24日 | |
| 特許 5819515 | ラッピング加工用研磨材およびそれを用いた基板の製造方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5819589 | 研磨用組成物を用いた方法 | 2015年11月24日 | |
| 特許 5816663 | スクラッチ低減方法及びスクラッチ低減剤 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5819076 | 研磨用組成物 | 2015年11月18日 | |
| 特許 5813738 | 研磨用組成物 | 2015年11月17日 | |
| 特許 5774283 | 研磨用組成物及び研磨方法 | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5775470 | 研磨用組成物 | 2015年 9月 9日 | |
| 特許 5769255 | サーメット皮膜とそれを形成する噴射用粒子、サーメット皮膜形成方法、皮膜形成品 | 2015年 8月26日 | |
| 特許 5758655 | 酸化アルミニウムとジルコンを含むスラリー組成物から酸化アルミニウムとジルコンを分離する方法 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5759904 | 半導体ウェーハの再生方法及び研磨用組成物 | 2015年 8月 5日 | |
| 特許 5748820 | 溶射用粉末、溶射方法、溶射皮膜の製造方法、及び溶射皮膜 | 2015年 7月15日 | |
| 特許 5730851 | 未脱気液のろ過方法 | 2015年 6月10日 | |
| 特許 5726400 | 溶射用粉末、溶射皮膜の形成方法、及び溶射皮膜 | 2015年 6月 3日 | |
| 特許 5695708 | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 | 2015年 4月 8日 |
19 件中 1-15 件を表示
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5838083 5819515 5819589 5816663 5819076 5813738 5774283 5775470 5769255 5758655 5759904 5748820 5730851 5726400 5695708
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