ＪＳＲ株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第168位 259件
（
2015年：第163位 288件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第160位 223件
（2015年：第98位 285件）
（ランキング更新日：2025年1月20日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ＪＳＲ株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-173406 | 半導体デバイス製造用組成物及び加工基板の製造方法 | 2016年 9月29日 | |
| 特開 2016-173513 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2016年 9月29日 | |
| 特開 2016-173544 | 液晶表示素子及びその製造方法、並びに液晶配向剤 | 2016年 9月29日 | |
| 特開 2016-170230 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-170338 | レジスト下層膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-170360 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-170381 | 位相差フィルム積層体、偏光板及び位相差フィルム積層体の製造方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-171294 | 洗浄用組成物および洗浄方法 | 2016年 9月23日 | |
| 特開 2016-166443 | オフセット印刷用紙 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-166958 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-167047 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-167050 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 | 2016年 9月15日 | |
| 特開 2016-167447 | 発光装置および感放射線性材料 | 2016年 9月15日 | |
| 再表 2014-57749 | 電極用バインダー組成物 | 2016年 9月 5日 | |
| 特開 2016-158558 | ＤＮＡとＲＮＡの単離方法 | 2016年 9月 5日 |
272 件中 61-75 件を表示
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2016-173406 2016-173513 2016-173544 2016-170230 2016-170338 2016-170360 2016-170381 2016-171294 2016-166443 2016-166958 2016-167047 2016-167050 2016-167447 2014-57749 2016-158558
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