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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第2380位 8件
(
2019年:第2673位 7件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第2418位 6件
(
2019年:第8760位 1件)
(ランキング更新日:2026年10月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-528548 | 真空チャンバの清浄度を監視する清浄度モニタおよび方法 | 2020年 9月24日 | |
| 特表 2020-527295 | 基板を移動させる方法およびシステム | 2020年 9月 3日 | |
| 特開 2020-115131 | 試験片の調査の方法およびそのシステム | 2020年 7月30日 | |
| 特開 2020-113767 | 半導体試料の欠陥を分類する方法およびそのシステム | 2020年 7月27日 | |
| 特表 2020-521323 | 半導体ウエハを検査するための技法 | 2020年 7月16日 | |
| 特表 2020-521325 | 半導体ウエハ上のパターン内の高低差の測定 | 2020年 7月16日 | |
| 特表 2020-519902 | 製造プロセス欠陥を検出するための方法、コンピュータプログラム製品およびシステム | 2020年 7月 2日 | |
| 特開 2020-4443 | 多層構造体の層間のオーバレイを測定する技法 | 2020年 1月 9日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2020-528548 2020-527295 2020-115131 2020-113767 2020-521323 2020-521325 2020-519902 2020-4443
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