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アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッド
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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第4585位 3件
（
2024年：第3594位 5件）
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1132位 14件
（
2024年：第1617位 12件）
（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アプライド マテリアルズ イスラエル リミテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7741775 | 半導体試料における側面凹部測定 | 2025年 9月18日 | |
| 特許 7739083 | ウエハ分析のための較正データを生成する方法およびシステム | 2025年 9月16日 | |
| 特許 7728486 | ＧＩＳマニピュレータ用の断熱カバーによる堆積速度の向上 | 2025年 8月22日 | |
| 特許 7699147 | 最適な焦束イオンビームエッチングのための適応形状寸法 | 2025年 6月26日 | |
| 特許 7697017 | 透明基板を有するウエハ上に電子ビームを集束させる方法 | 2025年 6月23日 | |
| 特許 7691392 | 半導体試料の調査のための画像生成 | 2025年 6月11日 | |
| 特許 7675744 | 試料の構造要素に関する３次元情報の生成 | 2025年 5月13日 | |
| 特許 7672613 | 均一なデレイヤリングのための高エネルギーＳＥＭ下堆積を用いた空構造体の充填 | 2025年 5月 8日 | |
| 特許 7656445 | 疑わしい欠陥の位置の決定 | 2025年 4月 3日 | |
| 特許 7648410 | ３次元情報の決定 | 2025年 3月18日 | |
| 特許 7646458 | 半導体試料中のアレイの識別 | 2025年 3月17日 | |
| 特許 7636293 | 半導体試料の３次元再構成 | 2025年 2月26日 | |
| 特許 7633094 | 弱いラベル付けを使用した半導体試料内の欠陥の検出 | 2025年 2月19日 | |
| 特許 7612430 | リソグラフィマスクの比較可能領域を生成するシステムおよび方法 | 2025年 1月14日 |
14 件中 1-14 件を表示
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7741775 7739083 7728486 7699147 7697017 7691392 7675744 7672613 7656445 7648410 7646458 7636293 7633094 7612430
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