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■ 2025年 出願公開件数ランキング 第10609位 0件
(2024年:第3594位 5件)
■ 2025年 特許取得件数ランキング 第1260位 3件
(2024年:第1617位 12件)
(ランキング更新日:2025年3月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7636293 | 半導体試料の3次元再構成 | 2025年 2月26日 | |
特許 7633094 | 弱いラベル付けを使用した半導体試料内の欠陥の検出 | 2025年 2月19日 | |
特許 7612430 | リソグラフィマスクの比較可能領域を生成するシステムおよび方法 | 2025年 1月14日 |
3 件中 1-3 件を表示
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7636293 7633094 7612430
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3月18日(火) -
3月18日(火) - 東京 港区
3月19日(水) -
3月19日(水) -
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3月21日(金) -
3月21日(金) -
3月21日(金) - 石川 金沢市
3月18日(火) -
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