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芝浦メカトロニクス株式会社
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第618位 53件
（
2015年：第422位 83件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第576位 45件
（2015年：第423位 61件）
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芝浦メカトロニクス株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6002411 | ＥＵＶマスク製造方法およびＥＵＶマスク製造装置 | 2016年10月 5日 | |
| 特許 6000019 | 基板処理装置 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 6000404 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 9月28日 | |
| 特許 5992081 | レーザ処理装置 | 2016年 9月14日 | |
| 特許 5988760 | 塗布液塗布装置および重量測定方法 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5989338 | 処理液生成装置、処理液生成方法、基板処理装置及び基板処理方法 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5989835 | プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 | 2016年 9月 7日 | |
| 特許 5970249 | 電子部品の実装装置及び実装方法 | 2016年 8月17日 | |
| 特許 5967993 | 減圧装置 | 2016年 8月10日 | |
| 特許 5959104 | 貼り合せ板状体検査装置及び方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5954984 | 洗浄処理装置及び洗浄処理方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5936747 | 表示装置を構成する部材の製造装置および製造方法 | 2016年 6月22日 | |
| 特許 5921953 | 反射型マスクの製造方法、および反射型マスクの製造装置 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5917610 | 基板処理装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5917750 | ロードロック装置および真空処理装置 | 2016年 5月18日 |
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6002411 6000019 6000404 5992081 5988760 5989338 5989835 5970249 5967993 5959104 5954984 5936747 5921953 5917610 5917750
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