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シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド
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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第664位 47件
（
2018年：第1193位 21件）
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第985位 20件
（2018年：第1831位 9件）
（ランキング更新日：2026年4月24日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6617202 | 干渉計測定装置およびその制御方法 | 2019年12月11日 | |
| 特許 6615370 | 表面形状測定方法、および露光視野制御値算出方法 | 2019年12月 4日 | |
| 特許 6592591 | シリコンウエハ搬送システム | 2019年10月16日 | |
| 特許 6577149 | パターン化サファイア基板マスクのパターン構造および露光方法 | 2019年 9月18日 | |
| 特許 6559822 | 平板粒度検出装置 | 2019年 8月14日 | |
| 特許 6530825 | ウエハのプリアライメント装置及び方法 | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6531107 | レーザアニールのためのビームホモジナイザ | 2019年 6月12日 | |
| 特許 6523558 | 透明基板を備えた薄膜の測定装置およびその測定方法 | 2019年 6月 5日 | |
| 特許 6517329 | 露光装置、並びに焦点外れ及び傾斜誤差の補正方法 | 2019年 5月22日 | |
| 特許 6511143 | ホトリソグラフィ装置の露光システムのための自己減衰シャッター | 2019年 5月15日 | |
| 特許 6510665 | 基板プリアライメント方法 | 2019年 5月 8日 | |
| 特許 6505947 | 露光装置 | 2019年 4月24日 | |
| 特許 6502504 | プレアライメント測定装置及び方法 | 2019年 4月17日 | |
| 特許 6494151 | 露光装置および方法 | 2019年 4月 3日 | |
| 特許 6481034 | デフォーカス検知方法 | 2019年 3月13日 |
20 件中 1-15 件を表示
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6617202 6615370 6592591 6577149 6559822 6530825 6531107 6523558 6517329 6511143 6510665 6505947 6502504 6494151 6481034
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