ソイテックの特許登録一覧 2014年

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公報番号	発明の名称	出願人	公報発行日
特許 5646593	「シリコン−オン−インシュレーター」ＳＯＩ型の基板のための表面処理方法	ソイテック	2014年12月24日
特許 5640272	回路層転写により多層構造体を製作する方法	ソイテック	2014年12月17日
特許 5633854	多層ウェーハ内の不均一変形の評価のためのシステム及び方法	ソイテック	2014年12月 3日
特許 5619872	シリコンオンインシュレータ基板を薄化する方法	ソイテック	2014年11月 5日
特許 5615798	温度制御注入	ソイテック	2014年10月29日
特許 5596053	半導体オンインシュレータ型構造の外周環状部における酸化物層の溶解方法	ソイテック	2014年 9月24日
特許 5589189	制御された電界を有する電子デバイス	ソイテック	2014年 9月17日
特許 5584905	オーバーレイミスアライメントを減少させた直接ボンディング法	ソイテック	2014年 9月10日
特許 5587205	エピタキシャル成長基板に前駆体ガスを送出するための装置	ソイテック	2014年 9月10日
特許 5582617	歪み層の緩和	ソイテック	2014年 9月 3日
特許 5575482	単結晶ＩＩＩ−Ｖ族半導体材料のエピタキシャル堆積法、及び堆積システム	ソイテック	2014年 8月20日
特許 5575483	ＩＩＩ−Ｖ族半導体材料の大量製造装置	ソイテック	2014年 8月20日
特許 5571679	半導体材料を含む構造の品質を改善する方法	ソイテック	2014年 8月13日
特許 5571712	三塩化ガリウムを製造するための大容量送達方法	ソイテック	2014年 8月13日
特許 5567569	選択した格子定数または制御した格子定数を有する半導体材料の層を使用する半導体構造または半導体デバイスを製造する方法	ソイテック	2014年 8月 6日

43 件中 1-15 件を表示

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5646593 5640272 5633854 5619872 5615798 5596053 5589189 5584905 5587205 5582617 5575482 5575483 5571679 5571712 5567569

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