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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1844位 12件
(
2019年:第3170位 6件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1779位 9件
(
2019年:第2668位 5件)
(ランキング更新日:2026年1月9日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6801154 | シリコンオンインシュレータウェハの埋め込み酸化膜を溶解するための方法 | 2020年12月16日 | |
| 特許 6794644 | 先進の固体電解質及び製造の方法 | 2020年12月 2日 | |
| 特許 6786755 | 異なる歪み状態を有するフィン構造を含む半導体構造を作製するための方法及び関連する半導体構造 | 2020年11月18日 | |
| 特許 6776492 | 欠陥を検出するための方法及び関連する装置 | 2020年10月28日 | |
| 特許 6773274 | ドナー基板から圧電層を剥離するための電界の使用 | 2020年10月21日 | |
| 特許 6769013 | 埋め込みミラーを有する加工基板 | 2020年10月14日 | |
| 特許 6759520 | 半導体構造を製作する方法 | 2020年 9月23日 | |
| 特許 6716838 | 基板を製造するための方法 | 2020年 7月 1日 | |
| 特許 6657516 | RF用途のための半導体オンインシュレータ基板 | 2020年 3月 4日 |
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6801154 6794644 6786755 6776492 6773274 6769013 6759520 6716838 6657516
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