※ ログインすれば出願人(ソイテック)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1844位 12件
(2019年:第3170位 6件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第1779位 9件
(2019年:第2668位 5件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6801154 | シリコンオンインシュレータウェハの埋め込み酸化膜を溶解するための方法 | 2020年12月16日 | |
特許 6794644 | 先進の固体電解質及び製造の方法 | 2020年12月 2日 | |
特許 6786755 | 異なる歪み状態を有するフィン構造を含む半導体構造を作製するための方法及び関連する半導体構造 | 2020年11月18日 | |
特許 6776492 | 欠陥を検出するための方法及び関連する装置 | 2020年10月28日 | |
特許 6773274 | ドナー基板から圧電層を剥離するための電界の使用 | 2020年10月21日 | |
特許 6769013 | 埋め込みミラーを有する加工基板 | 2020年10月14日 | |
特許 6759520 | 半導体構造を製作する方法 | 2020年 9月23日 | |
特許 6716838 | 基板を製造するための方法 | 2020年 7月 1日 | |
特許 6657516 | RF用途のための半導体オンインシュレータ基板 | 2020年 3月 4日 |
9 件中 1-9 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6801154 6794644 6786755 6776492 6773274 6769013 6759520 6716838 6657516
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ソイテックの知財の動向チェックに便利です。
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月1日(月) - 東京 港区
特許庁:AI/DX時代に即した産業財産権制度について ~有識者委員会での議論を踏まえた、特許・意匠制度の見直しの方向性~
9月1日(月) -
9月2日(火) -
9月2日(火) -
9月2日(火) - 東京 港区
9月3日(水) -
9月3日(水) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月4日(木) -
9月4日(木) - 大阪 大阪市
9月5日(金) -
9月5日(金) -
9月6日(土) -
9月1日(月) - 千葉 千葉市美浜区中瀬1丁目3番地
9月10日(水) - 東京 港区
9月10日(水) -
9月11日(木) - 東京 江東区
9月11日(木) - 広島 広島
ますます頼りにされる商標担当者になるための3つのポイント ~ 社内の商標相談にサクサクと答えられるエッセンスを教えます ~
9月12日(金) -
9月12日(金) -
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田3050 厚木アクストメインタワー3階B-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒564-0051 大阪府吹田市豊津町1番18号 エクラート江坂ビル4F 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標
東京都板橋区東新町1-50-1 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許