※ ログインすれば出願人(ソイテック)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2018年 出願公開件数ランキング 第7458位 2件
(2017年:第3286位 6件)
■ 2018年 特許取得件数ランキング 第1497位 12件
(2017年:第2245位 7件)
(ランキング更新日:2025年4月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6432090 | 異なる歪み状態を有するトランジスタチャネルを含む半導体層を製作する方法及び関連半導体層 | 2018年12月 5日 | |
特許 6413129 | 二重層転写のための機械的分離の方法 | 2018年10月31日 | |
特許 6410362 | 効率を改善するように構成された低バンドギャップ活性層を有する光活性デバイス及び関連する方法 | 2018年10月24日 | |
特許 6400693 | 犠牲材料で充填されたキャビティを含む半導体構造を作製する方法 | 2018年10月 3日 | |
特許 6369761 | 構造を処理するためのプロセス | 2018年 8月 8日 | |
特許 6354057 | 構造を作製するための方法 | 2018年 7月11日 | |
特許 6319849 | 単結晶材料の利用効率を改善した擬似基板 | 2018年 5月 9日 | |
特許 6286775 | 選択された界面に沿って少なくとも2つの基板を分離するための方法 | 2018年 3月 7日 | |
特許 6286776 | 活性層の初期歪み状態を最終歪み状態へと修正するプロセス | 2018年 3月 7日 | |
特許 6286780 | 無線周波数用途又は電力用途のための電子装置及びそのような装置を製造するためのプロセス | 2018年 3月 7日 | |
特許 6273620 | 多層半導体構造の層の厚さばらつきを測定するための方法 | 2018年 2月 7日 | |
特許 6269664 | LED又は太陽電池セルの構造を製造する方法 | 2018年 1月31日 |
12 件中 1-12 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6432090 6413129 6410362 6400693 6369761 6354057 6319849 6286775 6286776 6286780 6273620 6269664
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ソイテックの知財の動向チェックに便利です。
4月9日(水) -
4月9日(水) -
4月10日(木) - 東京 港区赤坂3-9-1 紀陽ビル4階
【セミナー|知財業界で働くなら知っておくべき】知財部長と代表弁理士が伝える、知財部と事務所の違いとは〈4/10(木)19時~〉
4月11日(金) -
〒500-8368 岐阜県 岐阜市 宇佐3丁目4番3号 4-3,Usa 3-Chome, Gifu-City, 500-8368 JAPAN 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒063-0811 札幌市西区琴似1条4丁目3-18紀伊国屋ビル3階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 コンサルティング
オーブ国際特許事務所(東京都)-ソフトウェア・電気電子分野専門
東京都千代田区飯田橋3-3-11新生ビル5階 特許・実用新案 商標 外国特許 鑑定