ホーム > 特許ランキング > 富士フイルム株式会社 > 2017年 > 出願公開一覧
※ ログインすれば出願人(富士フイルム株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2017年 出願公開件数ランキング 第20位 1917件
(2016年:第25位 1346件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第19位 1310件
(2016年:第19位 1542件)
(ランキング更新日:2025年2月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
再表 2016-39059 | 高分子機能性膜形成用組成物、高分子機能性膜及びその製造方法、分離膜モジュール、並びに、イオン交換装置 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-39106 | タッチパネル用導電フィルム | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-39216 | 有機半導体膜形成用組成物、及び有機半導体膜の製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-39217 | 有機半導体インク、有機半導体素子及びその製造方法、並びに、化合物 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-39272 | 画像形成材料及び画像形成方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-42829 | 画像形成装置 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-42835 | 液滴吐出装置およびノズル面の清掃方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-42930 | 繊維強化複合材料および繊維強化複合材料の製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-42993 | 液体供給システム | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-43005 | パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、ブロック共重合体、及び、ブロック共重合体の製造方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-43232 | 化合物、着色組成物、インクジェット記録用インク、インクジェット記録方法、インクジェットプリンタカートリッジ、インクジェット記録物、カラーフィルタ、カラートナー、及び転写用インク | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47192 | 画像読取装置及び印刷装置 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47309 | 平版印刷版原版、その製造方法、及びそれを用いる印刷方法 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47358 | 払拭部材、ノズル払拭ユニット、及び画像形成装置 | 2017年 4月27日 | |
再表 2016-47391 | 有機半導体素子及びその製造方法、化合物、有機半導体膜形成用組成物、並びに、有機半導体膜 | 2017年 4月27日 |
1927 件中 1036-1050 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
2016-39059 2016-39106 2016-39216 2016-39217 2016-39272 2016-42829 2016-42835 2016-42930 2016-42993 2016-43005 2016-43232 2016-47192 2016-47309 2016-47358 2016-47391
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。富士フイルム株式会社の知財の動向チェックに便利です。
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
3月4日(火) - 東京 港区
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月4日(火) -
3月5日(水) -
3月5日(水) -
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 品川区
3月6日(木) -
3月6日(木) - 東京 港区
3月6日(木) -
3月7日(金) -
3月7日(金) - 東京 港区
3月7日(金) -
3月7日(金) -
3月4日(火) - 東京 港区
東京都新宿区四谷2-12-5 四谷ISYビル3階 PDI特許商標事務所内 特許・実用新案 訴訟 鑑定 コンサルティング
東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目35-14-202 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 鑑定 コンサルティング
〒106-6111 東京都港区六本木6丁目10番1号 六本木ヒルズ森タワー 11階 横浜駅前オフィス: 〒220-0004 神奈川県横浜市西区北幸1丁目11ー1 水信ビル 7階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング