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富士フイルム株式会社

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　■　2018年出願公開件数ランキング　　　第23位　1337件（2017年：第20位　1917件）

　■　2018年特許取得件数ランキング　　　第17位　1243件（2017年：第19位　1310件）

（ランキング更新日：2025年9月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

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富士フイルム株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6427132	磁気テープおよび磁気テープ装置	2018年11月21日
特許 6427154	塗布型磁気記録媒体製造用カーボンブラック組成物および塗布型磁気記録媒体の製造方法	2018年11月21日
特許 6427340	光学異方性層とその製造方法、積層体とその製造方法、偏光板、液晶表示装置及び有機ＥＬ表示装置	2018年11月21日
特許 6427390	ペロブスカイト膜形成液、ペロブスカイト膜、光電変換素子、太陽電池、ペロブスカイト膜の製造方法、光電変換素子の製造方法、および太陽電池の製造方法	2018年11月21日
特許 6427459	機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法	2018年11月21日
特許 6427465	立方体形状を有するチタン酸ストロンチウム微粒子の製造方法、及び、立方体形状のチタン酸ストロンチウム微粒子、立方体形状の金属ドープチタン酸ストロンチウム微粒子、及びその製造方法	2018年11月21日
特許 6427473	有機半導体膜形成用組成物、有機半導体膜およびその製造方法、並びに有機半導体素子	2018年11月21日
特許 6427521	感圧粘着シート及びその製造方法、感圧粘着シート材、感圧粘着シート材ロール	2018年11月21日
特許 6427555	機上現像型平版印刷版原版の処理方法及び印刷方法	2018年11月21日
特許 6427590	レジスト膜のパターニング用有機系処理液の製造方法、及び、レジスト膜のパターニング用有機系処理液が収容された収容容器、並びに、これらを使用したレジスト膜のパターニング用有機系処理液の保管方法、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法	2018年11月21日
特許 6427625	画像処理装置及びその作動方法	2018年11月21日
特許 6427659	組成物キット、積層体およびその製造方法、バンドパスフィルター	2018年11月21日
特許 6427663	ドーム型カメラ及びドームカバー	2018年11月21日
特許 6427670	パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法	2018年11月21日
特許 6427684	レジスト組成物、並びに、これを用いたレジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法	2018年11月21日

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6427132 6427154 6427340 6427390 6427459 6427465 6427473 6427521 6427555 6427590 6427625 6427659 6427663 6427670 6427684

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