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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第2477位 9件 (2016年:第2281位 9件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第1363位 14件 (2016年:第1366位 15件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2017-521865 | 高縦横比を有する凹部の上に絶縁膜を蒸着する方法 | 2017年 8月 3日 | |
特開 2017-120883 | 基板処理装置 | 2017年 7月 6日 | |
特開 2017-98534 | 基板処理装置及びこれを用いた基板処理方法 | 2017年 6月 1日 | |
特表 2017-513209 | ポリシリコーン膜の形成方法 | 2017年 5月25日 | |
特開 2017-55104 | 基板処理装置 | 2017年 3月16日 | |
特開 2017-55105 | 基板処理装置 | 2017年 3月16日 | |
特開 2017-28260 | 基板処理装置 | 2017年 2月 2日 | |
特表 2017-503340 | 基板処理装置及び基板処理方法 | 2017年 1月26日 | |
特表 2017-501569 | 基板処理装置 | 2017年 1月12日 |
9 件中 1-9 件を表示
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2017-521865 2017-120883 2017-98534 2017-513209 2017-55104 2017-55105 2017-28260 2017-503340 2017-501569
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