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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2408位 8件
(
2020年:第7311位 2件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第9343位 1件
(
2020年:第4018位 3件)
(ランキング更新日:2026年10月16日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-528536 | モノアルキルスズアルコキシドの安定な溶液、並びにそれらの加水分解生成物及び縮合生成物 | 2021年10月21日 | |
| 特表 2021-528676 | スズ十二量体、及び強いEUV吸収を有する放射線パターニング可能なコーティング | 2021年10月21日 | |
| 特表 2021-519340 | ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法 | 2021年 8月10日 | |
| 特開 2021-73367 | 有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成 | 2021年 5月13日 | |
| 特開 2021-73505 | パターン形成された無機層、放射線によるパターン形成組成物、およびそれに対応する方法 | 2021年 5月13日 | |
| 特開 2021-47426 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物 | 2021年 3月25日 | |
| 特開 2021-21953 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物および対応する方法 | 2021年 2月18日 | |
| 特表 2021-503482 | 有機スズクラスター、有機スズクラスターの溶液、及び高解像度パターン形成への適用 | 2021年 2月12日 |
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2021-528536 2021-528676 2021-519340 2021-73367 2021-73505 2021-47426 2021-21953 2021-503482
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