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インプリア・コーポレイション

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インプリア・コーポレイションの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2023-138943	モノアルキルスズアルコキシドの安定な溶液、並びにそれらの加水分解生成物及び縮合生成物	2023年10月 3日
特開 2023-139165	有機金属フォトレジスト現像剤組成物及び処理方法	2023年10月 3日
特表 2023-539735	反応物の供給に好都合な配位子を持つ有機スズ組成物の製造方法	2023年 9月19日
特開 2023-123712	ポリアルキル汚染が少ないモノアルキルスズ化合物、それらの組成物及び方法	2023年 9月 5日
特表 2023-524969	中間凍結工程による有機金属光パターニング可能層を用いたマルチパターニング	2023年 6月14日
特表 2023-515693	無機レジストパターニング用のプロセス環境	2023年 4月13日
特開 2023-40027	有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物および対応する方法	2023年 3月22日
特開 2023-36768	微粒子汚染を有するモノアルキルスズトリアルコキシド及び／又はモノアルキルスズトリアミド、並びに対応する方法	2023年 3月14日
特開 2023-27070	スズ十二量体、及び強いＥＵＶ吸収を有する放射線パターニング可能なコーティング	2023年 3月 1日
特開 2023-27078	有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成	2023年 3月 1日
特開 2023-27327	低い金属汚染及び／又は微粒子汚染を有するモノアルキルスズトリアルコキシド及び／又はモノアルキルスズトリアミド、並びに対応する方法	2023年 3月 1日
特開 2023-25059	パターン化された有機金属フォトレジスト及びパターニングの方法	2023年 2月21日

12 件中 1-12 件を表示

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2023-138943 2023-139165 2023-539735 2023-123712 2023-524969 2023-515693 2023-40027 2023-36768 2023-27070 2023-27078 2023-27327 2023-25059

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