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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第4414位 4件 (2018年:第7458位 2件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第8774位 1件 (2018年:第8638位 1件)
(ランキング更新日:2025年1月31日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2019-532489 | 金属含有レジストからのエッジビード領域における金属残留物を低減する方法 | 2019年11月 7日 | |
特開 2019-113855 | 有機金属溶液に基づいた高解像度パターニング組成物 | 2019年 7月11日 | |
特表 2019-514042 | 予めパターン形成されたリソグラフィ・テンプレート、該テンプレートを使用した放射線パターニングに基づくプロセス、及び該テンプレートを形成するためのプロセス | 2019年 5月30日 | |
特表 2019-500490 | 有機スズオキシドヒドロキシドのパターン形成組成物、前駆体およびパターン形成 | 2019年 1月10日 |
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2019-532489 2019-113855 2019-514042 2019-500490
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1月31日(金) -
1月31日(金) -
2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
2月5日(水) - 東京 港区
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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