特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＨＯＹＡ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第185位　291件（2016年：第182位　243件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第113位　286件（2016年：第93位　350件）

（ランキング更新日：2024年11月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2017-177821	パターンドメディア作製用基板およびパターンドメディア、並びにこれらの製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-181544	表示装置製造用位相シフトマスクの製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-181545	表示装置製造用フォトマスクの製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-181571	反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-181675	撮像装置	2017年10月 5日
特開 2017-181731	マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-181733	多層膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-182052	位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び表示装置の製造方法	2017年10月 5日
特開 2017-182057	基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法	2017年10月 5日
再表 2017-51779	分析装置	2017年 9月28日
特開 2017-169897	電子内視鏡システム	2017年 9月28日
特開 2017-169910	内視鏡形状把握システム	2017年 9月28日
特開 2017-169994	内視鏡先端位置特定システム	2017年 9月28日
特開 2017-170169	走査型共焦点内視鏡システム	2017年 9月28日
特開 2017-170588	基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法	2017年 9月28日

296 件中 46-60 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2017-177821 2017-181544 2017-181545 2017-181571 2017-181675 2017-181731 2017-181733 2017-182052 2017-182057 2017-51779 2017-169897 2017-169910 2017-169994 2017-170169 2017-170588

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＨＯＹＡ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数