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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
(ランキング更新日:2025年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-177821 | パターンドメディア作製用基板およびパターンドメディア、並びにこれらの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181544 | 表示装置製造用位相シフトマスクの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181545 | 表示装置製造用フォトマスクの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181571 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181675 | 撮像装置 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181731 | マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-181733 | 多層膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-182052 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び表示装置の製造方法 | 2017年10月 5日 | |
特開 2017-182057 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 | 2017年10月 5日 | |
再表 2017-51779 | 分析装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-169897 | 電子内視鏡システム | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-169910 | 内視鏡形状把握システム | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-169994 | 内視鏡先端位置特定システム | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-170169 | 走査型共焦点内視鏡システム | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-170588 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 | 2017年 9月28日 |
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2017-177821 2017-181544 2017-181545 2017-181571 2017-181675 2017-181731 2017-181733 2017-182052 2017-182057 2017-51779 2017-169897 2017-169910 2017-169994 2017-170169 2017-170588
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