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HOYA株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第185位 291件 下降2016年:第182位 243件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第113位 286件 下降2016年:第93位 350件)

(ランキング更新日:2025年5月8日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-156762 マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及びマスクブランク用基板製造装置 2017年 9月 7日
再表 2016-76404 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 2017年 8月31日
再表 2017-38213 マスクブランク、マスクブランクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2017年 8月31日
特開 2017-148272 眼内レンズ 2017年 8月31日
特開 2017-148336 撮影機器 2017年 8月31日
特開 2017-148392 計算システム 2017年 8月31日
特開 2017-149607 プレス成形型、及び、光学素子の製造方法 2017年 8月31日
特開 2017-151389 マスクブランク、レジスト膜付きマスクブランク、レジストパターン付きマスクブランク、およびそれらの製造方法、ならびに転写用マスクの製造方法 2017年 8月31日
特開 2017-151480 マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 2017年 8月31日
特開 2017-151483 EUVリソグラフィー用多層反射膜付き基板及びEUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、並びにEUVリソグラフィー用反射型マスク及び半導体装置の製造方法 2017年 8月31日
再表 2016-68125 光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材 2017年 8月24日
特開 2017-146628 マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 2017年 8月24日
特開 2017-140426 内視鏡システム 2017年 8月17日
特開 2017-140427 共焦点内視鏡システム 2017年 8月17日
特開 2017-142135 検出器、検出方法およびガラス基板 2017年 8月17日

296 件中 76-90 件を表示

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2017-156762 2016-76404 2017-38213 2017-148272 2017-148336 2017-148392 2017-149607 2017-151389 2017-151480 2017-151483 2016-68125 2017-146628 2017-140426 2017-140427 2017-142135

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