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HOYA株式会社

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  2017年 出願公開件数ランキング    第185位 291件 下降2016年:第182位 243件)

  2017年 特許取得件数ランキング    第113位 286件 下降2016年:第93位 350件)

(ランキング更新日:2025年6月6日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特開 2017-172000 成膜装置の立ち上げ方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 2017年 9月28日
特開 2017-173578 フォトマスク用基板のリサイクル方法、フォトマスク用基板の製造方法、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 2017年 9月28日
特開 2017-173670 パターン修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び修正膜形成装置 2017年 9月28日
特開 2017-173744 レンズ支持構造 2017年 9月28日
特開 2017-173756 撮像装置 2017年 9月28日
特開 2017-173757 撮像装置 2017年 9月28日
特開 2017-173807 撮像光学系 2017年 9月28日
特開 2017-173857 マスクブランクおよび転写用マスク 2017年 9月28日
特開 2017-175056 インプリントモールド用基板、マスクブランク、インプリントモールド用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 2017年 9月28日
特開 2017-158672 電子内視鏡システム 2017年 9月14日
特開 2017-158948 電子内視鏡 2017年 9月14日
特開 2017-160118 ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 2017年 9月14日
特開 2017-161807 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 2017年 9月14日
特開 2017-161931 マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 2017年 9月14日
特開 2017-153558 内視鏡用プロセッサ及び光供給量調整方法 2017年 9月 7日

296 件中 61-75 件を表示

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2017-172000 2017-173578 2017-173670 2017-173744 2017-173756 2017-173757 2017-173807 2017-173857 2017-175056 2017-158672 2017-158948 2017-160118 2017-161807 2017-161931 2017-153558

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