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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第185位 291件
(2016年:第182位 243件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第113位 286件
(2016年:第93位 350件)
(ランキング更新日:2025年2月18日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2017-172000 | 成膜装置の立ち上げ方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173578 | フォトマスク用基板のリサイクル方法、フォトマスク用基板の製造方法、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173670 | パターン修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び修正膜形成装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173744 | レンズ支持構造 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173756 | 撮像装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173757 | 撮像装置 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173807 | 撮像光学系 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-173857 | マスクブランクおよび転写用マスク | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-175056 | インプリントモールド用基板、マスクブランク、インプリントモールド用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 | 2017年 9月28日 | |
特開 2017-158672 | 電子内視鏡システム | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-158948 | 電子内視鏡 | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-160118 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-161807 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-161931 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 | 2017年 9月14日 | |
特開 2017-153558 | 内視鏡用プロセッサ及び光供給量調整方法 | 2017年 9月 7日 |
296 件中 61-75 件を表示
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2017-172000 2017-173578 2017-173670 2017-173744 2017-173756 2017-173757 2017-173807 2017-173857 2017-175056 2017-158672 2017-158948 2017-160118 2017-161807 2017-161931 2017-153558
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2月19日(水) - 東京 港区
2月19日(水) -
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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