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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第250位 164件
(2020年:第260位 156件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第232位 123件
(2020年:第204位 144件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2021-39144 | 導電膜付基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-39271 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-39335 | 反射膜付基板、マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 | 2021年 3月11日 | |
特開 2021-39385 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 | 2021年 3月11日 | |
再表 2019-151404 | 着色ガラスおよびその製造方法 | 2021年 3月 4日 | |
特開 2021-35549 | 内視鏡システム | 2021年 3月 4日 | |
特開 2021-29459 | 内視鏡システム及び内視鏡装置 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-29669 | 内視鏡システム、データ処理装置、内視鏡、通信接続方法及びコンピュータプログラム | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-31354 | 発光ガラス | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-32923 | 光学素子及び光学装置 | 2021年 3月 1日 | |
特開 2021-28965 | 光照射装置 | 2021年 2月25日 | |
特開 2021-23538 | 内視鏡システム | 2021年 2月22日 | |
特開 2021-26163 | 反射防止膜付き光学部材及びその製造方法 | 2021年 2月22日 | |
再表 2020-66591 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 | 2021年 2月15日 | |
特開 2021-16515 | データ処理装置、および内視鏡システム | 2021年 2月15日 |
164 件中 136-150 件を表示
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2021-39144 2021-39271 2021-39335 2021-39385 2019-151404 2021-35549 2021-29459 2021-29669 2021-31354 2021-32923 2021-28965 2021-23538 2021-26163 2020-66591 2021-16515
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2月22日(土) - 東京 板橋区
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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