特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ＨＯＹＡ株式会社

※ ログインすれば出願人(ＨＯＹＡ株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第250位　164件（2020年：第260位　156件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第232位　123件（2020年：第204位　144件）

（ランキング更新日：2025年2月21日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年

ＨＯＹＡ株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特開 2021-14401	光学ガラスおよび光学素子	2021年 2月12日
特開 2021-15269	近赤外線カットフィルタ及びそれを備える撮像装置	2021年 2月12日
特開 2021-15295	導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法	2021年 2月12日
特開 2021-15299	マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法	2021年 2月12日
特開 2021-11402	ガラスレンズ成形型	2021年 2月 4日
特開 2021-12399	反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法	2021年 2月 4日
特開 2021-8397	ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子	2021年 1月28日
特開 2021-9397	マスクブランク、及びインプリントモールドの製造方法	2021年 1月28日
特開 2021-6494	リヒートプレス用ガラス材料、リヒートプレス済ガラス材料、研磨済ガラス及びそれらの製造方法	2021年 1月21日
特開 2021-4745	がん診断のための代謝バイオマーカー	2021年 1月14日
特開 2021-4920	マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法	2021年 1月14日
特開 2021-5024	声質変換方法及び声質変換装置	2021年 1月14日
特開 2021-5074	マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法	2021年 1月14日
再表 2019-159778	内視鏡用光学系及び内視鏡	2021年 1月 7日

164 件中 151-164 件を表示

... 11

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-14401 2021-15269 2021-15295 2021-15299 2021-11402 2021-12399 2021-8397 2021-9397 2021-6494 2021-4745 2021-4920 2021-5024 2021-5074 2019-159778

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ＨＯＹＡ株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数