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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第1754位 12件
（
2019年：第1714位 13件）
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第2418位 6件
（
2019年：第3973位 3件）
（ランキング更新日：2026年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2020-535392 | ガス放電光源におけるフッ素検出 | 2020年12月 3日 | |
| 特表 2020-534555 | フォトリソグラフィのためのディザ不要な適応ドーズ制御及びロバストドーズ制御の方法 | 2020年11月26日 | |
| 特開 2020-173476 | 光ビームのコヒーレンス量の調整 | 2020年10月22日 | |
| 特表 2020-527738 | レーザビームのアライメント及び診断のための方法及び装置 | 2020年 9月10日 | |
| 特表 2020-526738 | フッ素濃度を感知するための装置及び方法 | 2020年 8月31日 | |
| 特開 2020-109526 | リソグラフィ光学部品の調節及びモニタリング | 2020年 7月16日 | |
| 特表 2020-518126 | 繰り返し率ベースの利得推定器を用いる改善されたレーザ光エネルギー及びドーズの制御 | 2020年 6月18日 | |
| 特表 2020-516861 | 空間出力からスペクトル形状を回復すること | 2020年 6月11日 | |
| 特表 2020-515055 | パルス光ビームのスペクトル特徴制御 | 2020年 5月21日 | |
| 特表 2020-507099 | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | 2020年 3月 5日 | |
| 特表 2020-501110 | スペクトル特徴計測のための光ビームの均質化 | 2020年 1月16日 | |
| 特表 2020-501347 | ＤＵＶ光源におけるパルス毎の波長目標追跡用の波長制御システム | 2020年 1月16日 |
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2020-535392 2020-534555 2020-173476 2020-527738 2020-526738 2020-109526 2020-518126 2020-516861 2020-515055 2020-507099 2020-501110 2020-501347
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