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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第1031位 23件
(
2023年:第786位 35件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第909位 25件
(
2023年:第1078位 20件)
(ランキング更新日:2026年4月20日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-545995 | メトロロジ装置及び方法 | 2024年12月17日 | |
| 特表 2024-543070 | 多焦点結像を容易にする制御電圧閾値選択 | 2024年11月19日 | |
| 特開 2024-157560 | 予測的に較正をスケジュール設定する装置及び方法 | 2024年11月 7日 | |
| 特開 2024-153725 | レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置 | 2024年10月29日 | |
| 特表 2024-539549 | レーザ電極を状態調整するための装置及び方法 | 2024年10月29日 | |
| 特表 2024-536734 | エネルギー性能を向上させるための設計された表面を有する電極 | 2024年10月 8日 | |
| 特開 2024-123026 | 中心波長を制御するためのシステム及び方法 | 2024年 9月10日 | |
| 特表 2024-527229 | 制御されたリアクタリセットを有するパルスパワーシステム | 2024年 7月24日 | |
| 特表 2024-526033 | 光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステム | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-526151 | ガス放電ステージ用のガス制御装置 | 2024年 7月17日 | |
| 特表 2024-525290 | 光学源のための予測装置及び方法 | 2024年 7月12日 | |
| 特表 2024-518258 | 単一リソグラフィ露光パスにおいて複数の空間像を形成する | 2024年 5月 1日 | |
| 特表 2024-516632 | パルス出力光ビームのパルスを生成するための磁気スイッチングネットワーク用の電子モジュール | 2024年 4月16日 | |
| 特開 2024-50593 | エタロンでの測定誤差の決定 | 2024年 4月10日 | |
| 特開 2024-41779 | 光源装置用のエネルギー補正モジュール | 2024年 3月27日 |
24 件中 1-15 件を表示
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2024-545995 2024-543070 2024-157560 2024-153725 2024-539549 2024-536734 2024-123026 2024-527229 2024-526033 2024-526151 2024-525290 2024-518258 2024-516632 2024-50593 2024-41779
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