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サイマー　リミテッド　ライアビリティ　カンパニー

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サイマー　リミテッド　ライアビリティ　カンパニーの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2024-545995	メトロロジ装置及び方法	2024年12月17日
特表 2024-543070	多焦点結像を容易にする制御電圧閾値選択	2024年11月19日
特開 2024-157560	予測的に較正をスケジュール設定する装置及び方法	2024年11月 7日
特表 2024-539549	レーザ電極を状態調整するための装置及び方法	2024年10月29日
特開 2024-153725	レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置	2024年10月29日
特表 2024-536734	エネルギー性能を向上させるための設計された表面を有する電極	2024年10月 8日
特開 2024-123026	中心波長を制御するためのシステム及び方法	2024年 9月10日
特表 2024-527229	制御されたリアクタリセットを有するパルスパワーシステム	2024年 7月24日
特表 2024-526151	ガス放電ステージ用のガス制御装置	2024年 7月17日
特表 2024-526033	光学アセンブリのキャビティ長を能動的に制御するためのシステム	2024年 7月17日
特表 2024-525290	光学源のための予測装置及び方法	2024年 7月12日
特表 2024-518258	単一リソグラフィ露光パスにおいて複数の空間像を形成する	2024年 5月 1日
特表 2024-516632	パルス出力光ビームのパルスを生成するための磁気スイッチングネットワーク用の電子モジュール	2024年 4月16日
特開 2024-50593	エタロンでの測定誤差の決定	2024年 4月10日
特開 2024-41779	光源装置用のエネルギー補正モジュール	2024年 3月27日

24 件中 1-15 件を表示

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2024-545995 2024-543070 2024-157560 2024-539549 2024-153725 2024-536734 2024-123026 2024-527229 2024-526151 2024-526033 2024-525290 2024-518258 2024-516632 2024-50593 2024-41779

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