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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第1452位 15件
(
2020年:第1754位 12件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第1299位 14件
(
2020年:第2418位 6件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-536033 | ガス放電ステージの本体のためのメトロロジ | 2021年12月23日 | |
| 特表 2021-528839 | ガス監視システム | 2021年10月21日 | |
| 特開 2021-120765 | リソグラフィ光学部品の調節及びモニタリング | 2021年 8月19日 | |
| 特開 2021-114622 | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | 2021年 8月 5日 | |
| 特表 2021-517353 | パルス光ビームのスペクトル特性選択及びパルスタイミング制御 | 2021年 7月15日 | |
| 特表 2021-514112 | ガス管理システム | 2021年 6月 3日 | |
| 特開 2021-81748 | スペクトルフィーチャ制御装置 | 2021年 5月27日 | |
| 特表 2021-513212 | ガス管理システム | 2021年 5月20日 | |
| 特表 2021-510926 | レーザチャンバにおける放電性能を調整する装置 | 2021年 4月30日 | |
| 特表 2021-510455 | 放電チャンバのための電極 | 2021年 4月22日 | |
| 特開 2021-52197 | ガス放電光源におけるガス最適化 | 2021年 4月 1日 | |
| 特表 2021-505360 | レーザ放電チャンバにおけるダスト捕捉のための不織スクリーン | 2021年 2月18日 | |
| 特表 2021-503710 | リソグラフィシステム帯域幅制御 | 2021年 2月12日 | |
| 特表 2021-500603 | 単一リソグラフィ露光パスで複数の空間像を形成すること | 2021年 1月 7日 | |
| 特表 2021-500745 | レーザチャンバ内の電極の寿命を延ばす方法及び装置 | 2021年 1月 7日 |
15 件中 1-15 件を表示
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2021-536033 2021-528839 2021-120765 2021-114622 2021-517353 2021-514112 2021-81748 2021-513212 2021-510926 2021-510455 2021-52197 2021-505360 2021-503710 2021-500603 2021-500745
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