ホーム > 特許ランキング > バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド > 2016年 > 特許一覧
バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
※ ログインすれば出願人(バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3542位 5件
（
2015年：第5202位 3件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2385位 7件
（
2015年：第1611位 11件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッドの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6052184 | 静電クランプおよびイオン注入システム | 2016年12月27日 | |
| 特許 6014587 | 高表面抵抗率の静電チャック | 2016年10月25日 | |
| 特許 5995335 | シリコン結晶基板を成長するための装置および方法 | 2016年 9月21日 | |
| 特許 5983955 | 位置合わせ装置、ワークピースローディング装置および位置合わせ方法 | 2016年 9月 6日 | |
| 特許 5896572 | 基板プラズマ処理方法 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5871403 | 処理システムにおけるイオンの質量、エネルギー、および角度をモニターする技術および装置 | 2016年 3月 1日 | |
| 特許 5858496 | 多段階イオン注入を利用してパターニングされたフォトレジストを修正する方法およびシステム | 2016年 2月10日 | |
| 特許 5839240 | 装置および装置の動作方法 | 2016年 1月 6日 |
8 件中 1-8 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
6052184 6014587 5995335 5983955 5896572 5871403 5858496 5839240
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッドの知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
4月21日(月) -
4月22日(火) -
4月22日(火) -
4月22日(火) -
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月23日(水) - 東京 千代田区
4月23日(水) -
4月23日(水) -
4月24日(木) - 東京 港区
4月24日(木) -
4月24日(木) -
4月25日(金) -
4月21日(月) -
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒170-0013 東京都豊島区東池袋3丁目9-10 池袋FNビル4階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
Floor 16, Tower A, InDo Building, A48 Zhichun Road, Haidian District, Beijing 100098, P.R. China 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒220-0004 横浜市西区北幸１－５－１０ ＪＰＲ横浜ビル８階 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
