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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第3542位 5件
(2015年:第5202位 3件)
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第2385位 7件
(2015年:第1611位 11件)
(ランキング更新日:2025年4月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6052184 | 静電クランプおよびイオン注入システム | 2016年12月27日 | |
特許 6014587 | 高表面抵抗率の静電チャック | 2016年10月25日 | |
特許 5995335 | シリコン結晶基板を成長するための装置および方法 | 2016年 9月21日 | |
特許 5983955 | 位置合わせ装置、ワークピースローディング装置および位置合わせ方法 | 2016年 9月 6日 | |
特許 5896572 | 基板プラズマ処理方法 | 2016年 3月30日 | |
特許 5871403 | 処理システムにおけるイオンの質量、エネルギー、および角度をモニターする技術および装置 | 2016年 3月 1日 | |
特許 5858496 | 多段階イオン注入を利用してパターニングされたフォトレジストを修正する方法およびシステム | 2016年 2月10日 | |
特許 5839240 | 装置および装置の動作方法 | 2016年 1月 6日 |
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6052184 6014587 5995335 5983955 5896572 5871403 5858496 5839240
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4月4日(金) -
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