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日本ゼオン株式会社

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 ■ 2026年 特許取得件数ランキング    第143位 159件 (上昇2025年:第178位 173件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7882247 非水系二次電池接着層用組成物、非水系二次電池用接着層およびその製造方法、非水系二次電池用積層体およびその製造方法、ならびに、非水系二次電池 2026年 6月30日
特許 7879666 塩化ビニル樹脂組成物、塩化ビニル樹脂成形体および積層体 2026年 6月24日
特許 7878526 光電変換素子の製造方法 2026年 6月23日
特許 7878308 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2026年 6月23日
特許 7877774 バルーンカテーテルおよび圧力測定処理システム 2026年 6月23日
特許 7875424 マイクロ流体デバイス及びマイクロ流体デバイスの使用方法 2026年 6月18日
特許 7871921 熱伝導シート 2026年 6月 9日
特許 7871546 長尺ウェブの製造方法 2026年 6月 9日
特許 7868505 長尺フィルム及びその製造方法 2026年 6月 2日
特許 7868338 電気化学デバイス用部材の製造またはリサイクル方法、電気化学デバイスの製造方法、電気化学デバイス用部材、並びに電気化学デバイス 2026年 6月 2日
特許 7868615 電気化学素子用バインダー組成物、電気化学素子用導電材分散液、電気化学素子電極用スラリー、電気化学素子用電極及び電気化学素子 2026年 6月 2日
特許 7864995 積層体、粘着層付き積層体、偏光フィルム、粘着層付き偏光フィルム及び偏光フィルムの製造方法 2026年 5月26日
特許 7865204 中空粒子の製造方法及び中空粒子 2026年 5月26日
特許 7865329 ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 2026年 5月26日
特許 7861411 積層体及びその製造方法、並びに、偏光フィルムの製造方法 2026年 5月19日

161 件中 61-75 件を表示

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7882247 7879666 7878526 7878308 7877774 7875424 7871921 7871546 7868505 7868338 7868615 7864995 7865204 7865329 7861411

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