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■ 2019年 出願公開件数ランキング 第2557位 8件 (2018年:第12401位 1件)
■ 2019年 特許取得件数ランキング 第3203位 4件 (2018年:第5366位 2件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6624997 | 三核ハフニウムオキソ−アルコキソ錯体及びその製造方法 | 2019年12月25日 | |
特許 6618371 | N−ビニルイミダゾリドン化合物、およびその重合体 | 2019年12月11日 | |
特許 6613428 | ジアルキル[2−(ピレニル)フェニル]ホスフィン、および、パラジウム化合物とこれからなる触媒。 | 2019年12月 4日 | |
特許 6584150 | コバルト錯体及びその製造方法、コバルト含有薄膜及びその作製方法 | 2019年10月 2日 | |
特許 6584180 | ポリ−N−ビニルイミダゾリドン構造を有する温度応答性ポリマー | 2019年10月 2日 | |
特許 6578116 | 一置換(フルオロアルキル)エチレン類及びその製造方法 | 2019年 9月18日 | |
特許 6558910 | 光学活性トリエチレンジアミン誘導体及びその製造方法 | 2019年 8月14日 | |
特許 6537365 | 置換シクロペンタジエニルコバルト錯体及びその製造方法、コバルト含有薄膜及びその作製方法 | 2019年 7月 3日 | |
特許 6521818 | ジチアゾロベンゾジチオフェン化合物、その製造方法及びトランジスタ素子 | 2019年 5月29日 | |
特許 6516564 | コバルト錯体及びその製造方法、コバルト含有薄膜及びその作製方法 | 2019年 5月22日 | |
特許 6501544 | 第4族金属錯体、その製造方法、第4族金属含有薄膜の作製方法 | 2019年 4月17日 | |
特許 6491493 | 直鎖状トリシロキサン化合物の製造方法 | 2019年 3月27日 | |
特許 6475524 | (フルオロアルキル)アレーンの製造方法 | 2019年 2月27日 |
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6624997 6618371 6613428 6584150 6584180 6578116 6558910 6537365 6521818 6516564 6501544 6491493 6475524
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