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アイクストロン、エスイー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第4129位 4件
（
2011年： 0件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第9669位 1件
（2011年： 0件）
（ランキング更新日：2026年3月23日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2012-530368 | エピタキシー反応炉を構成する方法 | 2012年11月29日 | |
| 特表 2012-520578 | 異なる位置において異なるように熱消散エレメントと結び付くカバープレートを備えるＭＯＣＶＤ反応炉 | 2012年 9月 6日 | |
| 特表 2012-513669 | 円筒状のガス入口部品を有するＭＯＣＶＤ反応装置 | 2012年 6月14日 | |
| 特表 2012-503714 | 基板支持体上に磁気的に保持されるシャドーマスク | 2012年 2月 9日 |
4 件中 1-4 件を表示
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2012-530368 2012-520578 2012-513669 2012-503714
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