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アイクストロン、エスイー
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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第3594位 5件
（
2023年：第2149位 10件）
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第1722位 11件
（
2023年：第1732位 11件）
（ランキング更新日：2025年3月12日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2024-545400 | プロセスチャンバ内での第Ｖ主族元素含有層の堆積及びその後のプロセスチャンバの洗浄のための方法及び装置 | 2024年12月 6日 | |
| 特表 2024-538656 | 支持リングを有するＣＶＤリアクタ及び基板用支持リング | 2024年10月23日 | |
| 特表 2024-524244 | ＣＶＤリアクタ用の蒸気ソース | 2024年 7月 5日 | |
| 特表 2024-522968 | ＣＶＤリアクタ用のガス入口部材 | 2024年 6月25日 | |
| 特開 2024-79752 | ＣＶＤリアクタ用のガス入口装置 | 2024年 6月11日 |
5 件中 1-5 件を表示
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2024-545400 2024-538656 2024-524244 2024-522968 2024-79752
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