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アイクストロン、エスイー
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第2477位 8件
（
2015年：第3535位 5件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第3496位 4件
（2015年：第5375位 2件）
（ランキング更新日：2026年3月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2016-534561 | 基板処理装置 | 2016年11月 4日 | |
| 特開 2016-164303 | 高性能コーティングの堆積装置 | 2016年 9月 8日 | |
| 特表 2016-524808 | 後続の多段洗浄ステップを伴うＭＯＣＶＤ層成長方法 | 2016年 8月18日 | |
| 特表 2016-523442 | 高性能コーティングの堆積方法及びカプセル化電子デバイス | 2016年 8月 8日 | |
| 特開 2016-143888 | ＩＩＩ−Ｖ族半導体層の堆積方法及び堆積装置 | 2016年 8月 8日 | |
| 特表 2016-511328 | 粒子分離器を有するＣＶＤシステム | 2016年 4月14日 | |
| 特開 2016-14187 | ＣＶＤ装置またはＰＶＤ装置用固体または液体出発物質からの蒸気発生装置 | 2016年 1月28日 | |
| 特表 2016-500199 | ウェハ担持具上へウェハを方向定位するための装置 | 2016年 1月 7日 |
8 件中 1-8 件を表示
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2016-534561 2016-164303 2016-524808 2016-523442 2016-143888 2016-511328 2016-14187 2016-500199
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