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アイクストロン、エスイー
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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第2162位 10件
（
2020年：第3088位 6件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第5804位 2件
（
2020年：第1550位 11件）
（ランキング更新日：2025年6月4日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2021-536530 | ＣＶＤリアクタの設定又は稼動方法 | 2021年12月27日 | |
| 特表 2021-527963 | ＣＶＤリアクタのサセプタ表面温度を計測するための装置 | 2021年10月14日 | |
| 特表 2021-527333 | ＳｉＣ層堆積装置のプロセスチャンバに対向するサセプタ面をカバーするカバープレート | 2021年10月11日 | |
| 特表 2021-525966 | 基板取扱い用担持リングを有するＣＶＤリアクタ及びＣＶＤリアクタでの担持リングの使用 | 2021年 9月27日 | |
| 特表 2021-523979 | 炭素含有コーティングにより基板をコーティングするための装置 | 2021年 9月 9日 | |
| 特表 2021-522414 | 複数の二次元層でコーティングされた部品及びコーティング方法 | 2021年 8月30日 | |
| 特表 2021-520643 | 核生成層の堆積方法 | 2021年 8月19日 | |
| 特表 2021-519384 | 個別識別子を付与されたＣＶＤ装置部品及びその情報伝達方法 | 2021年 8月10日 | |
| 特表 2021-511666 | サセプタを駆動シャフトに接続するための装置 | 2021年 5月 6日 | |
| 特表 2021-507514 | ＣＶＤ法で堆積された層についての情報を得るための装置及び方法 | 2021年 2月22日 |
10 件中 1-10 件を表示
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2021-536530 2021-527963 2021-527333 2021-525966 2021-523979 2021-522414 2021-520643 2021-519384 2021-511666 2021-507514
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