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アイクストロン、エスイー
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第3535位 5件
（
2014年：第2742位 7件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第5375位 2件
（2014年：第3032位 6件）
（ランキング更新日：2025年12月5日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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アイクストロン、エスイーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2015-204461 | ＣＶＤリアクタにおける排ガス洗浄装置および方法 | 2015年11月16日 | |
| 特開 2015-106713 | 誘電性複合体構造の作製方法及び装置 | 2015年 6月 8日 | |
| 特開 2015-101790 | 炭素からなるナノ構造の製造装置および方法 | 2015年 6月 4日 | |
| 特表 2015-514161 | 原子層堆積法の使用によるＴｉＳｉＮ薄層の形成方法 | 2015年 5月18日 | |
| 特開 2015-76616 | プロセスチャンバ内におけるサセプタの回転位置の決定装置および方法 | 2015年 4月20日 |
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2015-204461 2015-106713 2015-101790 2015-514161 2015-76616
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