特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクノロジーズ

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクノロジーズ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第52位　689件（2010年：第70位　624件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-209353	ＦＰＤモジュールの組立装置	2011年10月20日
特開 2011-211135	プラズマ処理方法	2011年10月20日
特開 2011-200141	反応基板および分析装置	2011年10月13日
特開 2011-204309	微細パターン転写用スタンパ	2011年10月13日
特開 2011-204709	プラズマ処理装置	2011年10月13日
特開 2011-204346	洗浄方法及びその装置	2011年10月13日
特開 2011-204570	複合荷電粒子線装置	2011年10月13日
特開 2011-203080	画像処理装置、画像処理方法、画像処理プログラム	2011年10月13日
特開 2011-196731	走査荷電粒子顕微鏡を用いた画像生成方法及び装置、並びに試料の観察方法及び観察装置	2011年10月 6日
特開 2011-195872	マスク洗浄装置及び洗浄方法並びに有機ＥＬ製造装置	2011年10月 6日
特開 2011-197012	光学装置	2011年10月 6日
特開 2011-197461	ＦＰＤモジュールの組立装置	2011年10月 6日
特開 2011-199056	ＦＰＤモジュールの組立装置	2011年10月 6日
特開 2011-192922	真空処理装置	2011年 9月29日
特開 2011-193703	リニアモータ対、移動ステージ、及び電子顕微鏡	2011年 9月29日

689 件中 136-150 件を表示

... 10

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-209353 2011-211135 2011-200141 2011-204309 2011-204709 2011-204346 2011-204570 2011-203080 2011-196731 2011-195872 2011-197012 2011-197461 2011-199056 2011-192922 2011-193703

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクノロジーズの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数