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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第182位 243件
（
2015年：第107位 423件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第89位 360件
（
2015年：第95位 287件）
（ランキング更新日：2022年7月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2016-223914 | 検体前処理方法及び検体前処理装置 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-224938 | 異常診断システム、及び異常診断方法 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-225050 | プラズマ処理装置 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-225376 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年12月28日 | |
| 特開 2016-225579 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年12月28日 | |
| 特表 2016-540221 | 分析機器の試薬容器ホルダ、分析機器の試薬供給システム、及び分析機器 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-217836 | 試料断片化装置 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-217921 | 自動分析装置 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219178 | 荷電粒子線装置及び試料昇降装置 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219464 | 真空処理装置および搬送ロボット | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219578 | プラズマ処理装置 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-219673 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年12月22日 | |
| 特開 2016-211927 | イオンセンサ | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-212956 | マスク、マスクの使用方法及びマスクを備えたイオンミリング装置 | 2016年12月15日 | |
| 特開 2016-213358 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2016年12月15日 |
246 件中 1-15 件を表示
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2016-223914 2016-224938 2016-225050 2016-225376 2016-225579 2016-540221 2016-217836 2016-217921 2016-219178 2016-219464 2016-219578 2016-219673 2016-211927 2016-212956 2016-213358
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