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株式会社日立ハイテクノロジーズ
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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第52位 689件
（
2010年：第70位 624件）
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第98位 350件
（
2010年：第95位 307件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特開 2011-258563 | 質量分析装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257224 | 核酸分析デバイス、およびその製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-254806 | 釣菌装置および釣菌方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257222 | 欠陥検査方法および欠陥検査装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258576 | 荷電粒子線装置に用いられる標準試料，荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置に用いられる標準試料の製造方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258573 | 荷電粒子線装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257304 | 基板検査方法及び装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257186 | 欠陥検査装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257268 | 分光光度計 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258615 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-254944 | 磁場解析方法、プログラムおよび磁場解析装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257427 | 自動分析装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258967 | プラズマ処理装置 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-258614 | プラズマ処理装置または試料載置台 | 2011年12月22日 | |
| 特開 2011-257408 | 変位検出回路 | 2011年12月22日 |
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2011-258563 2011-257224 2011-254806 2011-257222 2011-258576 2011-258573 2011-257304 2011-257186 2011-257268 2011-258615 2011-254944 2011-257427 2011-258967 2011-258614 2011-257408
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