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株式会社日立ハイテクノロジーズ

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　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第52位　689件（2010年：第70位　624件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

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株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-237255	パターン形状検査装置及び検査方法並びにパターンドメディアディスク製造ライン	2011年11月24日
特開 2011-237277	核酸分析反応セルおよび核酸分析装置	2011年11月24日
特開 2011-237596	露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2011年11月24日
再表 2009-154049	自動分析装置	2011年11月24日
特開 2011-234693	核酸検査装置	2011年11月24日
特開 2011-237683	露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2011年11月24日
特開 2011-238630	ガス電界電離イオン源，走査荷電粒子顕微鏡	2011年11月24日
特開 2011-238400	走査電子顕微鏡及び走査電子顕微鏡による試料検査方法	2011年11月24日
特開 2011-237384	分析用光学系及びその光学系を用いた分析装置	2011年11月24日
特開 2011-234639	核酸増幅装置及びそれを用いた核酸検査装置	2011年11月24日
特開 2011-234681	核酸配列解析装置に用いられる温度制御装置	2011年11月24日
特開 2011-237375	欠陥検査方法及びその装置	2011年11月24日
特開 2011-234671	核酸抽出装置	2011年11月24日
特開 2011-237684	露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法	2011年11月24日
特開 2011-233721	真空処理装置及び真空処理方法	2011年11月17日

689 件中 61-75 件を表示

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2011-237255 2011-237277 2011-237596 2009-154049 2011-234693 2011-237683 2011-238630 2011-238400 2011-237384 2011-234639 2011-234681 2011-237375 2011-234671 2011-237684 2011-233721

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