特許ランキング - 出願人詳細情報 -

株式会社日立ハイテクノロジーズ

※ ログインすれば出願人(株式会社日立ハイテクノロジーズ)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2011年出願公開件数ランキング　　　第52位　689件（2010年：第70位　624件）

　■　2011年特許取得件数ランキング　　　第98位　350件（2010年：第95位　307件）

（ランキング更新日：2024年11月29日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年

株式会社日立ハイテクノロジーズの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特開 2011-232132	自動分析装置	2011年11月17日
特開 2011-232473	搭載装置，加熱圧着装置および表示パネルモジュール組立装置	2011年11月17日
特開 2011-233532	荷電粒子線装置	2011年11月17日
特開 2011-233708	ＦＰＤモジュールの組立装置	2011年11月17日
再表 2009-151058	磁性粒子を用いる分析装置	2011年11月17日
特開 2011-232354	校正用標準部材	2011年11月17日
特開 2011-232696	ＦＰＤの実装組立装置および実装組立方法	2011年11月17日
特開 2011-233721	真空処理装置及び真空処理方法	2011年11月17日
特開 2011-234145	ＲＤＭＡ受信装置	2011年11月17日
特開 2011-232359	パターン測定方法、及びパターン測定装置	2011年11月17日
特開 2011-232212	自動分析装置	2011年11月17日
特開 2011-228436	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法	2011年11月10日
特開 2011-228475	稠密スロット透過型電極体を用いたプラズマ処理装置	2011年11月10日
特開 2011-228397	真空処理装置	2011年11月10日
特開 2011-228741	半導体ウェーハ検査装置	2011年11月10日

689 件中 76-90 件を表示

... 6

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2011-232132 2011-232473 2011-233532 2011-233708 2009-151058 2011-232354 2011-232696 2011-233721 2011-234145 2011-232359 2011-232212 2011-228436 2011-228475 2011-228397 2011-228741

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。株式会社日立ハイテクノロジーズの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数